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磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与原子发生碰撞，电离出大量的离子和电子，电子飞向基片。离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，在运动过程中不断的与原子发生碰撞电离出大量的离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，终沉积在基片上。添加Pt的初衷是用作扩散障以阻止或推迟Al从涂层向基体的互扩散。
为了提高选矿生产能力，挖掘设备潜力，对碎矿流程进行了改造，使磨矿机的利用系数提高，采取的主要措施是实行多碎少磨，降低入磨矿石粒度。
据调查，我国80%左右的岩金矿山采用浮选法选金，产出的精矿多送往有色冶炼厂处理。由于qing化法提金的日益发展和企业为提高经济效益，减少精矿运输损失，近年来产品结构发生了较大的变化，多采取就地处理(当然也由于选冶之间的矛盾和计价等问题，迫使矿山就地自行处理)促使浮选工艺有较大发展，在黄金生产中占有相当的重要地位。研究铝化物（外生长型，单相β-NiAl）、铂改性铝化物（外生长型，单相β-(Ni,Al)Pt）和MCrAlY涂层在三种温度下的循环氧化行为。
黄金冶炼是黄金生产中后一道工序，其产品为成品金。冶炼有粗炼和精炼之分。精粗炼产品为合金(俗称合质金)，我国黄金矿山就地产金多为合质金，直接交售给银行。黄金富矿块和各种金精矿运往有色冶炼厂加工提炼成品金(俗称含量金)。建国40年来，黄金冶炼和综合回收发展较快，冶炼技术和工艺装备水平不断提高，冶炼成本日益降低，促进了黄金生产的发展。为此，采用碱化焙-浸脱硒-酸浸脱铜碲的工艺对该阳极泥进行预处理，有效地实现了硒、碲、铜的清洁分离。
在贵金属范畴内，金、银、铂、钯由于具有良好的机械物理性能，延展性优越，因此通常经行铸造、锻造以后，便很容易拉制成各种规格的丝材。在事实上，金、银、铂、钯无需进行中间退火，便可以从0.6cm以上一直拉到0.01cm，也就是说经冷拉后的截面积可以缩小99.95%以上，如果经过中间退火，铂可以拉至0.0076mm。资料介绍，如果采用沃拉斯顿法镀银后，可以冷拉至0.001mm,铑不能进行冷加工，但加热后也具有很大的延伸性能，还是可以拉制成一定程度的铑丝，铱在室温下硬而脆，因此也不能加工。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的抗磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此抗磨损效果不理想。
